光刻(ke)机是制造集成电路中(zhong)非常重要的设备，特别是现在市面上(shang)大部分的芯片都是属于电子芯(xin)片，当电子芯片的工艺(yi)小于一定的尺寸的时候(hou)，就必须依靠光刻机在制(zhi)作芯片，也就是说如果(guo)没有光刻机就没(mei)有办法制造出顶级的芯片，比如市面(mian)上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是非常重(zhong)要的，比如电脑、手机等电子产品都(dou)少不了。
光刻机的(de)制造难度
光刻机制造难度之大(da)可以用荷兰ASML公司的一句话来表示，对方表(biao)示就算把光刻机的图纸拿出来，我们(men)也制造不出光刻机。且不说对方是不(bu)是小看了中国制造，从侧面(mian)也反映出了光刻机的制作(zuo)难度之大。因为现在还没有一个国家(jia)可以独立的制造出(chu)顶级的光刻机，就算是(shi)现在行业领先的ASML公司制造出来的光刻机，也是集合了十(shi)几个国家的顶尖技术。
一台小小的光刻机上(shang)面就有十几万的小零件，而且为(wei)了让光刻机可以领先，所有的零部件都是(shi)采用了全世界最领先的(de)技术，所以说光刻机从插头、配(pei)件等都是选用了其他国家的(de)顶尖技术，这相当于全世界的技术(shu)融合在一起才可以制造出顶级的光刻机(ji)，而且ASML公司背后有(you)台积电、三星以及英特尔这样(yang)顶尖的企业投资支(zhi)持，也是花了几十年的时间才有今天的(de)成绩。
ASML光刻机
荷兰的ASML光刻机基本上都(dou)是供不应求，中国也一直(zhi)想要购买，但是现(xian)在还没有收到货。ASML的光刻机(ji)基本上都是内部(bu)消化了，毕竟台积电、三星以及英特尔(er)本来就是芯片大户，台积电能够(gou)在芯片代工领域有今天的成绩(ji)，跟手上有这么多的光刻(ke)机也有很大的关系。
光刻机是什么东西?
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光(guang)系统，光刻系统等，是制(zhi)造芯片的核心装备。它采用类似照片(pian)冲印的技术，把掩膜版上的精细(xi)图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多，根(gen)据采用不同技术路线的可以(yi)归纳成如下几类：
高(gao)端的投影式光刻机可分为步进投影和扫(sao)描投影光刻机两种(zhong)，分辨率通常七纳米至几微(wei)米之间，高端光刻机号称(cheng)世界上最精密的仪器，世界上已(yi)有1.2亿美金一(yi)台的光刻机。高端(duan)光刻机堪称现代光学工业之(zhi)花，其制造难度之大，全世界只有(you)少数几家公司能够制(zhi)造。
国外品(pin)牌主要以荷兰ASML（镜头(tou)来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高(gao)端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
位于我国上(shang)海的SMEE已(yi)研制出具有自主知识产权的投影式中(zhong)端光刻机，形成产品系(xi)列初步实现海内外销售。正在进行其他(ta)各系列产品的研发制(zhi)作工作。
生产线和研发用的低端光刻机为接(jie)近、接触式光刻机，分辨率通常(chang)在数微米以上。主(zhu)要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
都说要(yao)提高我国的光刻机技术，那这是一种怎样(yang)的技术呢？光(guang)刻机到底是个什么东西？这个东西简(jian)单来说它就是刻画芯片的一(yi)个东西，我们手机电脑包括汽车电视(shi)它里面都离不开芯片，只不过就是芯片(pian)的功能个位相同，但是你可以(yi)把芯片理解为一个人的大(da)脑这个芯片的精度越高，拿这个大(da)脑就越聪明。
这个芯(xin)片的刻画就离不开光刻机，我们可以(yi)把光刻机上面一个又一个(ge)的小晶体理解为人的细胞就是人的(de)大脑细胞，这个细胞越多人(ren)自然越聪明，但是一个芯片它本身的体(ti)积是有限的呀，手机就这么大个，你总不能做个1米×1米的芯片吗？那不现实的，而且(qie)他的能源流转资源消耗也太多了(le)，所以要在尽可能小的范(fan)围之内刻画出足够多的能够容纳类似于(yu)人体脑细胞一样的这个存在。
刻画的越多，同样的体(ti)积要容纳更多的人更多的细胞，那是(shi)不是就要这个细胞的体积尽可(ke)能的小一点，让他们彼此之间的间隔(ge)变得更小一点，本来芯片(pian)的体积就已经够(gou)小了，你还要让它变得更小，那你就需(xu)要更高精度的光刻机，这(zhe)就直接决定了芯片的制造(zao)基础是如何的，因为芯片研发是一回事，生产(chan)又是一回事，只能研发(fa)不能生产，那你仍然摆脱不(bu)了国外对你的限制，就比如(ru)说华为它是具备自己(ji)芯片的研发能力的(de)，但是因为没有高端的光刻机，自己(ji)不能生产。
所以我们需要更加高端的光(guang)刻机，现在我国有的应该是在14纳米左右这个光刻机不足(zu)以满足日常的使用，你现在所使用(yong)的天级1200，骁龙(long)865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳(na)米7纳米这样一个程度(du)的，所以我们还有很大(da)的差距，我们还是要(yao)继续努力，而且也不能盲目自信，我们应该对国产的公司(si)有信心，但是盲目(mu)的信心是不行的，未来5~10年之内我们能(neng)够赶上去，并且走到一个世界光(guang)刻机领域相当靠前的位(wei)置，这就算是发展不错的。
光刻机到底是做什么东(dong)西的？光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等(deng)。常用的光刻机是掩膜对准光(guang)刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片(pian)表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个(ge)图形（工艺）；
在硅片表面匀胶(jiao)，然后将掩模版(ban)上的图形转移光刻胶上的过(guo)程将器件或电路结构(gou)临时“复制”到硅片上(shang)的过程。
光刻机是不是就(jiu)是我们平时电脑上用的光(guang)盘刻录机呀，刻CD用的？当(dang)然不是，现在常说的光刻机(ji)主要用在芯片制造，这个名字(zi)只是俗称，学名是掩(yan)膜曝光机，原理类似(si)照片冲洗，把掩膜上的电路图形通过光(guang)线曝光印制在硅片上，形成微电路(lu)。
光刻机的生产集合了(le)全世界最尖端的黑科(ke)技，其中很大一部分技术我国跟世(shi)界前列的国家或(huo)企业是存在代差的，这个代差(cha)甚至在10年以上，所(suo)以跟光盘刻录机不是一个类(lei)型的东西。
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